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铝电解电容的发展历程



  铝电解电容在电容器中占二位,本来这类电容器是一般的直流电容器,由于它从材料、工艺、和结构上都发生了变化,从直流发展到交流,从低温发展到高温,从通用性发展到性,从一般结构发展到片式、扁平、书本式等结构,大容量扩扩展到4F左右,使用频率已达到30KHZ,工作温度已达到-55℃—125℃,额定电压已达到700v。

  在材料上,现在用的铝箔在成份和结构上都已经不要求高纯。为了提高起始腐蚀点数、机械强度及介质氧化膜的性能,箔中要适当含有些杂质,有的采用合金箔。

  在工艺上,铝电解电容器在工艺上的进展主要是腐蚀、赋能两个工艺。腐蚀工艺是根据对电容器的性能要求,腐蚀出不同坑洞形貌的铝箔。赋能工艺可以制造出的介质氧化膜,而且还可以根据要求不同,制造出不同的介质氧化膜。

  在结构上,主要有两种,一种是箔式卷绕形的,另一种是铝粉烧结多孔块状的,所用的固体电解质主要是MnO2。

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